1. Grado de vacío final de la cámara de grabado: menor o igual a 9,0×10-5Pa;
2. Materiales de grabado: silicio, cuarzo, compuestos III.-V, cerámicas y metales diversos, películas duras no metálicas, etc.;
3. Velocidad de grabado: mayor o igual a 10 nm ~ 200 nm/min (dependiendo del material y proceso de grabado específicos);
4. Fuente de iones: fuente de iones de CC circular de Φ150 mm de diámetro;
5. Rango de energía de iones Ar+: 100~1000 eV;
6. Densidad del haz de iones: 0~1 mA/cm2.